电子超纯水设备-纯水设备-瑞尔

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    2023-9-21

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edi超纯水系统取水注意事项

 由于edi超纯水系统的生产速度和效率远远高于传统纯水生产标准,已成为实验室纯水制备的---设备之一。不同的edi超纯水系统可以生产的纯水超纯水也不同。

在取水时应注意以下几点:

 1、edi超纯水系统每7-10天冲洗一次,防止---滋生。

  2、如果长时间不适用,必须将纯水机和水箱中的水全部排空。

  3、edi超纯水系统取水时,应先排出初始纯水和超纯水,待水质稳定后再取水。

  4、不要将edi超纯水系统和储水箱放置在阳光直射的地方,edi纯水设备,以防---滋生。



超纯水设备出水符合芯片生产

超纯水设备出水符合芯片生产用水需求

是指载有集成电路的半导体元件。芯片制造又称晶圆制造,是在晶圆表面通过物理和化学工艺步骤形成器件,并用金属线将器件连接起来形成集成电路的过程。芯片的需求主要来自科技的蓬勃发展,电子消费产品芯片的需求不低于汽车行业的需求。芯片的生产过程冗长,对所有的设备技术要求很严格,短时间解决芯片短缺问题仍然是一个难题,电子超纯水设备,而如何提高芯片的成品率问题就显得尤为重要。



超纯水设备出水符合芯片生产用水需求 在芯片生产中,纯水设备,几乎每一道工序都需要超纯水清洗,工件与水直接接触。一旦水质不达标或水中含有杂质,就会降低设备性能,降低产量。---超纯水的是我国自主研发芯片的重要基础。传统的超纯水生产工艺采用阴离子树脂交换设备。这种工艺的缺点是树脂在使用一段时间后会频繁地再生,增加成本。随着膜分离技术的不断成熟,莱特莱德采用反渗透工艺,或反渗透后再采用edi和抛光混床工艺生产超纯水,出水电导率可达18.2mω,半导体纯水设备,满足芯片行业用水需求。随着芯片制造工艺中对设计的需求更小,对纯水水质的要求也越来越严格。莱特莱德芯片超纯水设备能在一定程度上去除水中的二氧化硅、颗粒、---、有机物和微生物,从而达到行业用水要求。



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