纯水设备-瑞尔精工品质-超纯水设备

超纯水设备出水符合芯片生产用水需求　在芯片生产中，超纯水设备，几乎每一道工序都需要超纯水清洗，工件与水直接接触。一旦水质不达标或水中含有杂质，就会降低设备性能，降低产量。---超纯水的是我国自主研发芯片的重要基础。传统的超纯水生产工艺采用阴离子树脂交换设备。这种工艺的缺点是树脂在使用一段时间后会频繁地再生，电子纯水设备，增加成本。随着膜分离技术的不断成熟，莱特莱德采用反渗透工艺，或反渗透后再采用edi和抛光混床工艺生产超纯水，出水电导率可达18.2mω，满足芯片行业用水需求。随着芯片制造工艺中对设计的需求更小，对纯水水质的要求也越来越严格。莱特莱德芯片超纯水设备能在一定程度上去除水中的二氧化硅、颗粒、---、有机物和微生物，从而达到行业用水要求。

超纯水设备技术应用 出水符合电镀行业用水需要电镀工艺作为一项重要的表面工程技术，自1840年应用于镀银以来，已有160多年的历史。20世纪以来，纯水设备，随着科技的进步和工业化水平的不断提高，半导体纯水设备，电镀在汽车、机械设备、造船、航空航天、电子、轻工等行业的产品表面处理中不可少。目前，电镀已由一般的装饰防护向高耐腐蚀、功能化发展。随着电镀新工艺、新材料、新设备的不断开发与应用，电镀工业创造了新局面，应用领域不断拓大。